湖北氮化硅材料蚀制造商 欢迎咨询 广东省科学院半导体研究所供应干刻蚀是半导体工业采用的一种较新的技术,GaN材料刻蚀工艺。其利用电浆(plasma)对半导体薄膜材料进行刻蚀加工。其中,电浆必须在真空度约为10-0.001torr的环境中激发;Gan材料的蚀刻工艺可以达到用于干刻蚀的气体,或者轰击质量大,或者化学活性高。...
2023-09-27
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2023-09-26
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2023-09-24